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12月18日(月) AndTech　WEBオンライン「SiCパワー半導体開発の基礎と現状および SiC単結晶ウェハ製造プロセスの現状・技術課題・将来展望」Zoomセミナー講座を開講予定

PR TIMES

AndTech
関西学院大学　 工学部　 大谷　昇　氏 にご講演をいただきます。

　株式会社AndTech（本社：神奈川県川崎市、代表取締役社長：陶山　正夫、以下 AndTech）は、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、 昨今高まりを見せるSiCパワー半導体での課題解決ニーズに応えるべく、第一人者の講師からなる「SiCパワー半導体　ウェハ開発」講座を開講いたします。 SiCパワー半導体開発の最前線をご紹介,xEVへの応用が進むSiCパワー半導体の礎となるSiC単結晶ウェハの開発状況・ビジネス展開についてもご解説！ 本講座は、2023年12月18日開講を予定いたします。 詳細：https://andtech.co.jp/seminars/1ee52a52-57dd-65ae-a5ad-064fb9a95405




Live配信・WEBセミナー講習会　概要



テーマ：SiCパワー半導体開発の基礎と現状および SiC単結晶ウェハ製造プロセスの現状・技術課題・将来展望
開催日時：2023年12月18日(月) 13:00-17:00
参 加 費：39,600円（税込） ※ 電子にて資料配布予定
U　R　L ：https://andtech.co.jp/seminars/1ee52a52-57dd-65ae-a5ad-064fb9a95405
WEB配信形式：Zoom（お申し込み後、URLを送付）


セミナー講習会内容構成



　ープログラム・講師ー
関西学院大学　 工学部　 大谷　昇　氏


本セミナーで学べる知識や解決できる技術課題



SiCパワー半導体に関する基礎知識、開発・ビジネスの概況、SiCパワー半導体の礎となるSiC単結晶ウェハに関する基礎知識、開発・ビジネスの概況について修得できます。


本セミナーの受講形式



　WEB会議ツール「Zoom」を使ったライブLive配信セミナーとなります。
　詳細は、お申し込み後お伝えいたします。


株式会社AndTechについて



　化学、素材、エレクトロニクス、自動車、エネルギー、医療機器、食品包装、建材など、
　幅広い分野のR&Dを担うクライアントのために情報を提供する研究開発支援サービスを提供しております。
　弊社は一流の講師陣をそろえ、「技術講習会・セミナー」に始まり「講師派遣」「出版」「コンサルタント派遣」
　「市場動向調査」「ビジネスマッチング」「事業開発コンサル」といった様々なサービスを提供しております。
　クライアントの声に耳を傾け、希望する新規事業領域・市場に進出するために効果的な支援を提供しております。
　　https://andtech.co.jp/


株式会社AndTech　技術講習会一覧



一流の講師のＷＥＢ講座セミナーを毎月多数開催しております。
https://andtech.co.jp/seminars/search

　
株式会社AndTech　書籍一覧



選りすぐりのテーマから、ニーズの高いものを選び、書籍を発行しております。
https://andtech.co.jp/books

　
株式会社AndTech　コンサルティングサービス



経験実績豊富な専門性の高い技術コンサルタントを派遣します。
https://andtech.co.jp/business-consulting

　
本件に関するお問い合わせ



株式会社AndTech　広報PR担当 青木
メールアドレス：pr●andtech.co.jp（●を@に変更しご連絡ください）


下記プログラム全項目（詳細が気になる方は是非ご覧ください）



【講演主旨】
現状150mm口径のSiC単結晶ウェハが市販されており、ここ数年の間には200mm口径ウェハの製造・量産が開始されることがアナウンスされている。これを機にxEV向けのSiCパワーデバイスの本格量産が始まるとされる。パワー半導体向けには、その電子物性の優位性から4H-SiC単結晶ウェハが使用される。市販の4H-SiC単結晶ウェハを用いて、既に、高速・低損失のSiCショットキー障壁ダイオード（SBD）、金属-酸化膜-半導体電界効果トランジスタ（MOSFET）が製造・販売され、鉄道車両や産業機器に搭載されているが、SiCパワーデバイスのさらなる高性能化・高信頼性化、そして低コスト化には、そこで使用されているSiC単結晶ウェハのさらなる高品質化・低コスト化が必要不可欠である。
　本講演では、SiCパワー半導体開発の最前線を紹介すると共に、SiC単結晶ウェハの開発状況・ビジネス展開について解説し、SiC単結晶ウェハ開発において今後取り組むべき技術課題を議論する。

【プログラム】
1. SiCパワー半導体開発の背景
　　1.1. 環境・エネルギー技術としての位置付け
　　1.2. SiCパワー半導体開発がもたらすインパクト
2. SiCパワー半導体開発の歴史
　　2.1. SiCパワー半導体開発の黎明期
　　2.2. SiC単結晶成長とエピタキシャル成長のブレイクスルー
3. SiCパワー半導体開発の現状と動向
　　3.1. SiCパワー半導体の市場
　　3.2. SiCパワー半導体関連の学会・業界動向
　　3.3. SiCパワー半導体関連の最近のニュース
4. SiC単結晶の物性的特徴と各種デバイス応用
　　4.1. SiC単結晶とは？
　　4.2. SiC単結晶の物性と特長
　　4.3. SiC単結晶の各種デバイス応用
5. SiCパワーデバイスの最近の進展
　　5.1. SiCパワーデバイスの特長
　　5.2. SiCパワーデバイス（SBD、MOSFET）の現状
　　5.3. SiCパワーデバイスのシステム応用
6. SiC単結晶のバルク結晶成長
　　6.1. SiC単結晶成長の熱力学
　　6.2. 昇華再結晶法
　　6.3. 溶液成長法
　　6.4. 高温CVD法（ガス法）
　　6.5. その他成長法
　　　　　　　　
7. SiC単結晶ウェハの加工技術
　　7.1. SiC単結晶ウェハの加工プロセス
　　7.2. SiC単結晶の切断技術
　　7.3. SiC単結晶ウェハの研磨技術
8. SiC単結晶ウェハ上へのSiCエピタキシャル薄膜成長技術
　　8.1. SiCエピタキシャル薄膜成長技術の概要
　　8.2. SiCエピタキシャル薄膜成長装置の動向
【質疑応答】

＊ 本ニュースリリースに記載された商品・サービス名は各社の商標または登録商標です。
＊ 本ニュースリリースに記載された内容は発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがあります。
以　上