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【3/3展示】レーザー加工工程の最適化で不良低減・品質安定・生産性向上を図る レーザー加工装置の設計開発製造、Quantec

JID 2026 by ASCII STARTUP 展示概要紹介:株式会社Quantec

連載
JID 2026 by ASCII STARTUP

 ASCII STARTUPは2026年3月3日に東京・浜松町にて、展示交流・ビジネスカンファレンスイベント「JID 2026 by ASCII STARTUP」を開催する。本イベントは、起業家や開発者、スタートアップエコシステム関係者と交流できるビジネスマッチング・ネットワーキングの場として展開。当日は、注目企業によるピッチのほか、オープンイノベーションや知財戦略、スタートアップエコシステム識者を招いたセッションを実施。展示会場では、先進的な製品やソリューションを有する多数の企業による展示を予定している。

 ここでは、各ブース出展者の展示概要とメッセージを紹介。来場前に情報をチェックし、ビジネスマッチングやオープンイノベーションの推進に生かしていただきたい。

JID 2026 by ASCII STARTUP
▼ 来場事前登録はこちらから(入場無料)▼
https://jid2026.peatix.com

【展示ブース名】レーザー加工装置の設計開発製造
 ――株式会社Quantec

【展示概要紹介】
当社は、レーザー加工工程の最適化を専門とするシステムインテグレーターです。材料特性と加工目的に基づき、波長・出力・走査条件など最適なレーザーパラメータを設計し、品質と加工速度を両立する最適領域へプロセスを引き上げます。単なる装置販売ではなく、加工そのものを最適化することで、不良低減・品質安定化・生産性向上を実現します。
展示ではレーザーマーカーPicturaシリーズや加工事例をご紹介します。
PicturaシリーズはIR波長で最大1.6mの大面積加工が可能で広範囲を一括処理できるため、従来は分割や繰り返しが必要だった工程を短縮し、タクトタイムを大幅に改善可能です。さらに高出力化や3D対応などのカスタマイズ、装置組込みや自動化ライン化にも対応し、現場課題に直結する形で導入効果を提供します。

【来場者へのメッセージ】
――展示の見どころ・ポイントは?!
本展示では、レーザー加工工程を“加工条件から最適化する”という当社のアプローチを、具体的な加工事例を通じてご紹介します。
材料特性に基づいた波長選定とレーザーパラメータ最適化により、加工品質と加工速度を両立させ、工程全体の生産性向上につなげます。加えて、大面積加工による一括処理によるタクト短縮や工程削減の可能性をご提案します。装置構成はお客様の製品形状、要求品質、量産条件によって最適解が大きく異なるため、展示内容はあくまで一例です。ぜひブースへお立ち寄りいただき、現在の加工課題や導入条件をご相談ください。その場で実現可能性、期待効果、投資対効果を踏まえた初期仮説をご提示します。

――事業や製品、サービスを通じてどんな課題を解決できるか/解決を目指しているか、自社の強みを教えてください。
当社の強みは、レーザーが材料に照射された際に内部で起きている現象を原理原則から理解し、目的に対して最適なレーザーパラメータを理論的に定義できる点です。闇雲なトライ&エラーではなく、要求品質・加工速度・熱影響・歩留まりを踏まえた最適条件を設計し、再現性の高い加工プロセスを構築します。
さらに、その条件を確実に実現するための光学系・制御系・機構設計を含め、装置の設計開発・製造まで一貫して対応可能です。試作から量産移行までの立上げ支援にも対応し、開発期間の短縮と早期の投資回収に貢献します。

――展示会場で出会いたい/交流を深めたい産業分野、業種・職種のプレーヤーは?
自動車・EV、電池、電子部品、半導体製造装置、医療機器、建材・インフラ関連など、高品質と高い生産性が同時に求められる製造業の皆様と交流を深めたいと考えています。
特に、生産技術・製造技術・設備開発・品質保証・工程改善を担う実務責任者の方々、ならびに設備投資や生産戦略の意思決定を行う経営層・工場責任者の方と、具体的な加工課題を起点に議論したいです。
現在の加工条件に限界を感じている、品質と速度の両立に課題を抱えている、工程分割や外注依存によるコスト増に悩んでいるなど、何らかの加工課題をお持ちの方であれば業界は問いません。現状の制約や目標を共有いただければ、最適化の視点から新たな選択肢をご提示します。

 株式会社Quantec

 【設立】2024年7月
 【公式サイト】https://quantec.jp/
 【SNS】https://jp.linkedin.com/company/quantecinc

 
■関連サイト

 
 

「JID 2026 by ASCII STARTUP」開催概要

  【開催日】2026年3月3日(火)10:00~18:00
  【会 場】東京都立産業貿易センター浜松町館(3F・4F)
  【主 催】ASCII STARTUP
  【共同開催】XTC JAPAN 2026(XTC JAPAN)
  【同時開催】第7回「IP BASE AWARD」(特許庁IP BASE)
  【公式サイト】https://jid-ascii.com/

  【参加⽅法】事前登録制(下記よりお申し込みください)
        参加チケット申し込みサイト(Peatix)

  

 

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