インテル(株)の13日付けの報道資料によると、米IBM社と業界コンソーシアム“EUV LLC”は現地時間の12日、米IBM社がEUV LLCに参加したと発表した。
EUV LLCは、極紫外線(EUV:Extreme Ultra Violet)の露光技術の開発を行なう業界コンソーシアム｡'97年に米インテル、米モトローラ社、米AMD社の3社が設立し、2000年に
米マイクロン・テクノロジー社と独インフォニオン社が参加した。2005年までにEUV露光技術を用いた半導体の製造に向け、米エネルギー省管轄の3つの国立研究所(ローレンス・リバモア/サンディア/ローレンス・バークレイ)が構成するバーチャル国立研究所と協力し、研究活動を行なっている。EUV露光技術の実用化により、線幅0.1μm以下の集積回路の焼き付けが可能になり、動作周波数10GHzのマイクロプロセッサーが製造できるとしている。EUV LLCの会長を兼務する米インテルの技術・製造本部長のサンリン･チョウ(Sunlin Chou)上席副社長は、「米IBMの参画は、EUV露光技術が技術的にも商業的にも有望であることを裏付けるもの」と述べ、「EUV露光技術を用いた半導体製造装置の開発に向け、半導体装置/材料メーカーの協力を期待する」とコメントした。なお、EUV LLCに対して、露光ツールメーカーの米SVGL社と蘭ASML社が協力している。
