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モトローラ、0.1μmの微細化プロセスを実現

1999年02月02日 00時00分更新

文● 報道局 原武士

 モトローラ(株)は、米モトローラ社が現地時間の1日に、0.1μmの微細化プロセスを実現したと発表した。

 標準的な0.18μm製造プロセスを利用して、線幅0.1μmのマイクロプロセッサーの試作に成功したもので、これにより露光光源の波長よりも狭い(サブ波長)線幅のICを製造することが可能になった。

 これは米ニューメリカル・テクノロジーズ(ニューメリテック)社と事務提携を結び、位相シフト技術(PSM)と光接近補正技術(OPC)と同社のプロセス技術を組み合わせたことで実現した。同社では、この技術により、プロセッサーの小型化や、性能向上が実現できると見ている。

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